• 半导体光刻工艺之刻蚀——干法刻蚀

    湿法腐蚀的优点在于可以控制腐蚀液的化学成分,使得腐蚀液对特定薄膜材料的腐蚀速率远远大于其他材料的腐蚀速率,从而提高腐蚀的选择性。但是,由于湿法腐蚀的化学反应是各向同性的,因而...