240 发简信
IP属地:北京
  • 半导体光刻工艺之刻蚀——湿法腐蚀

    在湿法腐蚀的过程中,通过使用特定的熔液与需要腐蚀的薄膜材料进行化学反应,进而除去没有被光刻胶覆盖区域的薄膜。 湿法腐蚀的优点是工艺简单,但是在湿法腐蚀中所进行的化学反应没有特...